檢索結果：共7筆資料 檢索策略： "材料科學與工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="二硫化鉬"
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近年來，藥物活性成分(API)被大量發現在人體及我們的生態系統，並且造成各種慢性以及急性的負面影響，已被現代的環境汙染議題所重視。而發展高敏感度，高選擇度及低檢測限制的監測方式是很重要的。在本文中，…
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本研究中所使用的金屬硫化物陶金靶材是由本實驗室熱壓機自行壓製而成，利用RF磁控濺鍍法在低沉積溫度下能夠成功地製備出具高電催化特性之Ag/MoSx薄膜。實驗中，探討靶材中不同Ag含量比例，不同硫化物與…
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本研究探討利用化學氣相沉積系統於二氧化矽/矽基板上成長二硫化鉬薄膜並分析其光電特性實驗中。分別利用熱蒸氣沉積以及熱蒸氣硫化兩種成長方法製備二硫化鉬薄膜。熱蒸氣沉積製備方法為將三氧化鉬粉末與硫粉在高溫…
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二硫化鉬被認為是下一代奈米技術最有前途的材料之一。由於其獨特的二維結構、優異的物理化學特性，因此近年來許多研究都致力於開發新的二硫化鉬合成及其製備方法，以探討二硫化鉬的物理與化學性質以及其可能的…
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近年來由於壓電材料能夠於機械能和電能間互相轉換的性質而在電子應用 領域得到了廣泛之應用。其中壓電材料聚偏二氟乙烯(PVDF)具有出色的機械韌 性、重量輕和低介電常數等特性，是柔性電子產品中的支柱。然…
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本研究先利用RF磁控濺鍍法在低沉積溫度下製備出MoSx-Ag薄膜，接著分別以RF磁控濺鍍法以及電化學沉積法進行第二層的披覆改質，主要目的是希望讓酸性電解中有優異析氫能力的MoSx，能夠經第二層表面批…
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本研究以化學氣相沉積法，合成高品質石墨烯薄膜，並成功藉由石墨烯轉移支撐層作為鉬前驅物，直接成長二硫化鉬於石墨烯上，形成異質結構，應用於光催化二氧化碳還原。此成長方式和粉末作為前驅物的方法相比…